ASML

ASML  on hollantilainen yritys, suurin mikroelektroniikkateollisuuden litografisten laitteiden valmistaja , jota tarvitaan myös VLSI :n , muistisirujen, flash-muistin ja mikroprosessorien valmistukseen.

Pääkonttori sijaitsee Veldhovenissa , ja siellä sijaitsevat myös tutkimus- ja tuotantoyksiköt, asennuspaikoilla toimii yli 60 palvelukeskusta 16 maassa. Yhtiön osakkeet käydään kauppaa AEX- ja NASDAQ -pörsseissä tunnuksella ASML.

Yritys, alun perin nimeltään ASM Lithography [3] , perustettiin vuonna 1984 Advanced Semiconductor Materials Internationalin (ASMI) ] ja Philipsin yhteisyritykseksi . Myöhemmin Philipsille jäi vain pieni osa ASML-osakkeesta [4] . Yhtiö on 350 miljardin dollarin markkina - arvollaan (syksyllä 2021) Nasdaq-100- indeksin kärjessä [5] .

Päätoimittaja on saksalainen optiikan valmistaja Zeiss . Tärkeimmät kilpailijat ovat Canon ja Nikon .

Tuotteet

ASML-litografiakoneita käytetään integroitujen piirien valmistuksessa . Tällaisissa asennuksissa tapahtuu prosessi, jossa erityiset osittain läpinäkyvät kuviot (naamiot) projisoidaan optisesti puolijohdekiekon pinnalle, joka on peitetty ohuella valoherkällä materiaalilla ( valoresistillä ). Jokaiselle levylle tämä toimenpide toistetaan useita kymmeniä kertoja. Jokaisen projektion jälkeen levyä, jossa on käytetty fotoresistiä, käsitellään, jonka aikana muodostetaan mikropiirien elektroniset rakenteet. ASML-asennuksissa käytetty optinen menetelmä on yleistynyt lähes kaikkien integroitujen piirien valmistuksessa.

ASML:stä tuli johtava litografialaitteiden toimittaja vuonna 2002 [6] . Vuodesta 2007 lähtien ASML:n markkinaosuus fotolitografisten laitteiden myynnistä (maailmanlaajuisesti) oli 65 prosenttia [7] .

Vuodesta 2008 lähtien huippuluokan ASML Twinscan XT:1950:tä voitiin käyttää jopa 38 nm:n prosesseissa [8] jopa 131 kiekolla tunnissa. Asennus käyttää vesipinnoitettua immersiolitografiaa ja argonfluoridi ( argon-fluoridi , ArF) eksimeerilaseria , jonka aallonpituus on 193 nm. Samaan aikaan litografinen asennus maksoi keskimäärin 22 miljoonaa euroa [8] .

Vuonna 2009 ASML kehittää 13,5 nm:n laserlaitteita ( EUVL ). 22. huhtikuuta 2009 belgialainen tutkimuskeskus Imec esitteli toimivia 22 nm SRAM CMOS SRAM -siruja ASML-prototyyppiasetuksella EUVL:n kanssa [9] .

ASML-litografioiden pääsarja [10] :

• 1984: PAS 2000, resoluutio jopa 1 µm, paikannustarkkuus jopa 250 nm
• 1989: PAS 5000, resoluutio noin 0,5 µm, tarkkuus jopa 100 nm
• 1990-luku: PAS 5500, resoluutio 400-90 nm, tarkkuus jopa 100-12 nm
• 2000-luku: TWINSCAN-perhe (NX, NXT), resoluutio 100-38 nm, tarkkuus jopa 20-2 nm
• 2010-luku: TWINSCAN NXE kokeelliset EUV-järjestelmät, resoluutio 38-19 nm, tarkkuus parempi kuin 3 nm

Venäläiset käyttäjät

Venäjällä Angstrem-T :n tehtaalla suunniteltiin (vuodesta 2008) ASML-askeleiden (litografioiden) käyttöä [11] .

Myös venäläisten ASML:n käyttäjien joukossa on NIISI , joka käyttää projektion vaiheittaista animaatioasennusta (stepper) ASML PAS 5500/250С [12] [13] .

ASML-yksiköitä käytetään etulinjassa mikropiirien valmistukseen Zelenogradissa Mikronin tehtaalla (PAS 5500 / 750F 248 nm / 0,7 - 120 kiekkoa tunnissa ja PAS / 1150C 193 nm / 0,75 - 135 kiekkoa tunnissa).

Muistiinpanot

1. ↑ how-asml-grew-to-30-thousand-during-pandemic Arkistoitu 2. tammikuuta 2022 Wayback Machinessa // asml.com, 2021
2. ↑ ASML Holding NV // Polygon.io
3. ↑ Tietoja ASML:stä: Historiamme . ASML Holding. Haettu 18. kesäkuuta 2020. Arkistoitu alkuperäisestä 7. heinäkuuta 2020. (määrätön)
4. ↑ ASML-yrityshistoria (downlink) . Haettu 12. marraskuuta 2010. Arkistoitu alkuperäisestä 1. elokuuta 2009. (määrätön) 
5. ↑ Lainaukset NASDAQ -100 -indeksille  . www.nasdaq.com . Haettu 25. heinäkuuta 2020. Arkistoitu alkuperäisestä 25. huhtikuuta 2021.
6. ↑ Chris Mack. Virstanpylväät optisten litografian työkalujen toimittajissa 12 (2005). - "ASML(4)". Haettu 3. joulukuuta 2013. Arkistoitu alkuperäisestä 14. toukokuuta 2014. (määrätön)
7. ↑ ASML Lehdistötiedote 2007 vuosineljännes 4 Arkistoitu 7. heinäkuuta 2011 Wayback Machinessa "ASML kasvatti maailmanlaajuista markkinaosuutta liikevaihdolla mitattuna 65 prosenttiin vuonna 2007"
8. ↑ 1 2 Lehdistötiedote 2008 neljännes 3 (linkki ei saatavilla) . Haettu 12. marraskuuta 2010. Arkistoitu alkuperäisestä 7. heinäkuuta 2011. (määrätön) 
9. ↑ IMEC esittelee toiminnallisia 22 nm SRAM-kennoja, jotka on valmistettu EUV-tekniikalla . Arkistoitu 25. huhtikuuta 2009 Wayback Machinessa . IMEC:n lehdistötiedote, 22. huhtikuuta 2009.
10. ↑ Arkistoitu kopio . Käyttöpäivä: 6. syyskuuta 2014. Arkistoitu alkuperäisestä 6. syyskuuta 2014. (määrätön)
11. ↑ Angstrem-T-projekti: ensimmäinen venäläinen älyvalimon arkistokopio 27. toukokuuta 2011 Wayback Machine  - Electronics NTB 2008:ssa: "Odotamme toimivan 0,11-0,13 mikronin tasolla. Tämä on mahdollista, koska tämä on juuri ASML stepperien (litografioiden) tekninen resoluutio." // electronics.ru
12. ↑ http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc  (linkki ei saatavilla) "ASML:n PAS5500/250C projektiolitografiayksikköä käytetään NIISI RAS -tuotantolinjalla"
13. ↑ Arkistoitu kopio (linkki ei saatavilla) . Haettu 12. marraskuuta 2010. Arkistoitu alkuperäisestä 6. syyskuuta 2014.  (määrätön)  "käyttämällä vaiheittaisen animaation asennusta ASML PAS 5500/250С… "fotolitografian TP NIISI RAS:n tehtaalla."

Linkit

• asml.com - ASML:n virallinen verkkosivusto